南大光电（300346.SZ）：ArF光刻胶可广泛应用于90nm～28nm技术节点的各种高端IC芯片生产制造
格隆汇5月6日丨有投资者在投资者互动平台向南大光电(300346.SZ)提问，“请问贵司的光刻胶与容大感光的光刻胶区别在哪里呢”
南大光电回复称，公司目前研发和产业化的ArF光刻胶，是先进集成电路芯片制造的关键材料，可以广泛应用于90nm~28nm技术节点的各种高端IC芯片的生产制造。
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