日本芯片新技术崛起，或将对ASML的市场霸主地位产生威胁

日本芯片新技术崛起，或将对ASML的市场霸主地位产生威胁

在芯片生产中，有一种非常关键的光刻技术，那就是将数以亿万计的晶体管，暴露在晶片的表层，再用刻蚀技术，将其切割成一块块的电路。不过这台光刻机器价格不菲，制作困难，而且目前只有ASML才有这种高端的EUV光刻机器。

日本走出一条路，在新的奈米压印技术上取得了突破性进展，工艺水平达到了10nm水平。这是什么技术？它能代替光刻吗？

日本在新的晶片科技上取得重大进展

ASML垄断了最高级的光刻设备，EUV级的最高级光刻设备，都是有钱都买不到，所以才会被其他晶圆厂争相抢夺。EUV的光刻技术再先进，也有不少的缺陷。

首先，ASML公司必须遵守相关规定，无法随心所欲地生产EUV光刻机。其次，EUV光刻设备耗能极大，成本极高，哪怕是资本密集型的晶圆产业，也没几家公司负担得起。除此之外，还会出现一些问题，比如使用方便度，以及后期的维修保养等。

如果没有EUV光刻技术，5nm等高端芯片，想要在这个领域站稳脚跟，几乎是不可能的事情。那么，如果有一种更便宜、更容易操作、更强大的生产装置，在市场上会发生什么呢？居然真的有人开始研究，并且成功了。

据报道，东京科技大学的研究人员，在纳米压印技术方面，已经有了突破性的进展，他们成功地制作出了10nm精度小于10nm的纳米压印。

这是什么技术上的突破？想要理解这种技术上的突破性进展，首先要弄清楚它的工作原理。

“纳米压印”的原理很简单，从光刻的角度来看，就能看出，光刻机是用激光照射，将晶片的线条，精确到纳米级。而极紫外光的波段则是13.5纳米，可以将数十亿个半导体器件暴露在指甲缝中。

这个工艺很复杂，而且还得用到光刻胶和各种仪器和材料。

但有了纳米压印技术，就不需要使用光掩板了，而是直接将电路复刻在纳米压印机上，再将电路复制到硅片上。简单来说，就是用光刻机进行曝光，用纳米压印进行“盖章”。

而日本的铠侠公司，则是在一年前，就开始研究15nm的制程工艺。而如今，日本的研究人员又取得了新的进展，成功地将10nm工艺应用到了纳米压印上。

具体来说，东京科学大学此次的研究成果，可以将光刻胶的解析度，提升到10纳米以内，解析度更高，更容易印刷出更精致的晶片。10nm并不是他们的极限，7nm、5nm都是他们的极限。

奈米压印可以取代光刻？

人类对半导体的研究已经超过了半个多世纪，从最初的发明了集成电路和晶体管，到利用微米技术制造出了一块芯片，再到现在利用EUV光刻机来完成了5nm和4nm等高端芯片的量产。

十年前，很少有人会想到，一个人能将数以百万计的半导体器件，装进一枚指甲那么小的芯片里。

即便5纳米、4纳米等高端晶圆都能批量生产，但在这方面，人类也从未停止过对晶圆的研究。能够制造出一块晶圆的东西，或许不仅仅只有一台光刻机器，还有一条新的道路，那就是纳米压印技术，现在已经开始从理论发展到实际应用，甚至可以说是日积月累，日积月累。

等到那个时间点到来，再加上一台可以用来制造纳米压印的仪器，ASML公司的日子就真的要“终结”了。ASML自豪的极紫外光刻设备可能将不再是独一无二的。

不过，到现在为止，这种纳米压印技术也只是停留在理论层面上，并不能大规模生产。在这种情况下，所有的推测都只是一种可能。奈米压印技术是否可以取代光刻技术？

对此，有两派观点，一派持肯定态度，因为奈米压印技术，可以像光刻机那样，复制出一块电路。另外，采用纳米压印工艺所需的仪器，也要比EUV光刻节省10%左右的功耗。因此，奈米压印技术可以取代光刻技术。

还有一种看法是不可能的，他们也有自己的看法，他们认为，纳米印刷技术不能跟光刻机相比，因为光刻机可以制造出一块三维多层的芯片，而纳米印刷技术却只能制造出一块一块的平面，根本不可能制造出数百亿个晶体管。

两种说法各有各的说法，但是无论怎么说，在目前阶段，奈米印刷与制版技术的发展，都仅仅是对奈米印刷与制版技术发展方向的一种推测。还有一种可能，就是将纳米印刷技术和光刻技术结合在一起，然后根据自己的需要，采用一种新的技术。

因为奈米印刷和光刻印刷是两个完全不同的技术，两者之间的优势和缺点也是天差地别，很难被取代。因此，对于芯片制造业来说，寻找一条新的道路并不是什么坏事。

光刻机经过数十年的发展，已经凝聚了世界顶尖的技术实力，而ASML能做出EUV型的EUV光刻机，更是得到了世界上数百家科研单位、数十个国家的大力扶持。这关系到数十亿美元的半导体产业，想要取代是不可能的。

但新的技术，却是一个很好的研究方向。EUV光刻机的发展，总有一天会遇到瓶颈，而突破摩尔定律的方法，或许就是通过各种革新技术来实现的。

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