格隆汇9月12日丨有投资者于投资者互动平台向捷佳伟创(300724.SZ)提问,“公司在半导体设备领域是否有产品和技术积累?目前商业化进展如何?未来准备怎么布局?”
捷佳伟创(300724.SZ)回复称,公司在半导体领域,公司拥有4到12吋槽式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备,能够满足第三代半导体、微机电、后端封装、集成电路IDM和晶圆代工厂所需的湿法工艺需求,销售订单不断增加。公司研发团队突破了工艺炉管腔室设计与制造技术等六大核心技术,成功研制出碳化硅高温热处理设备,并通过预验收后顺利发往国内半导体IDM某头部企业,为公司拓展第三代半导体装备业务奠定了坚实基础。
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