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俄罗斯首台光刻机完成制造:该设备可确保生产350纳米工艺芯片

5月26日,据俄罗斯当地媒体称,俄罗斯首台光刻机已经制造完成,且正在进行测试中。俄罗斯工贸部副部长瓦西里·什帕克表示,该设备能够确保350纳米工艺芯片的生产。

俄罗斯工贸部副部长瓦西里·什帕克还表示,“我们组装且制造了首台国产光刻机。如今正在进行测试阶段,作为泽廖诺格勒技术生产线的计划之一。俄罗斯的下一个目标是到2026年能够制造可支持130纳米工艺芯片的光刻机。

据介绍,目前350纳米工艺芯片依旧能够应用于能源、汽车、通讯等多个行业。

据报道,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所曾于2022年表示,该公司宣布正在开发俄罗斯首台半导体光刻设备,并吹嘘这台光刻机将可以生产使用7nm的芯片,并将在2028年全面投入使用。

据报道,他们准备在6年内生产出这台光刻机的工业样机,从2024年开发alpha机器开始。这个阶段的重点不在于工作或解决方案的速度,而在于全部系统的全面性。

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  • 原文链接https://page.om.qq.com/page/OnedKK78cCpWLvJjepzGT83Q0
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