微波等离子体辅助原子层沉积系统的工作流程

前驱体输送：将不同的前驱体通过气体输送系统依次脉冲式地引入反应腔室。前驱体通常是气态或经过加热汽化后的液态物质，它们在精确的时间控制下进入腔室，与基底表面发生反应。

等离子体激发：在通入特定气体（如氧气、氮气等）的同时，启动微波发生器，产生微波等离子体。微波频率一般在GHz级别，它可以高效地将气体激发成等离子体状态。等离子体中的活性粒子会与前驱体和基底表面相互作用，促进反应的进行。

反应循环：重复上述前驱体输送和等离子体激发的过程，每一个循环沉积一层薄膜。通过控制循环的次数，可以精确控制薄膜的厚度。例如，如果每次循环沉积的薄膜厚度为0.1纳米，那么进行100次循环就可以得到厚度为10纳米的薄膜。

尾气处理：反应过程中产生的多余前驱体、副产物和废气会通过尾气处理系统排出反应腔室，以保证反应环境的清洁和安全。尾气处理系统通常包括过滤、吸附和中和等步骤，以去除有害气体和杂质。

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