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13nm芯片!中国量子芯片成功突围,光刻机限制即将失效

几乎是为中国“量身打造”的《瓦森纳协定》,外加美国层层禁令的制约,令荷兰光刻机巨头ASML至今无法向中国市场出口EUV光刻机。

众所周知,在芯片制造过程中,光刻机是最核心也是攻关难度最大的制造设备。而

EUV高端光刻机的重要性,在芯片工艺越发精进的如今,又有高度提升。

因此

,美国为了限制中国半导体产业的发展,直接对我国进行了

EUV光刻机的出口限制

。没有EUV光刻机,在传统工艺下的芯片也就无法继续进行高精度的突破。

如此以来,中国半导体产业将陷入停滞不前的状态。

这是美国所希望看到的情形,也是目前中国极力冲破的难关。

由于光刻机的制造极为复杂,且技术门槛极高,短时间内,攻克

EUV光刻机显然不现实。因此,如果想要以最快的速度打破美国的垄断,只能绕开光刻机。

日前,中国在一项技术上的突破,就有希望让光刻机的限制失效。

所谓量子芯片,是用于量子计算机的一种专用芯片。

而量子计算机,是近几十年来被世界各国高度重视的高科技产品。

依托于量子芯片,量子计算机能够以极快的速度进行并行计算,可帮助人类解决诸多拥有庞大计算量的难题,对航空航天、生物学、气象等领域有重要的应用意义。

很明显,量子计算机的核心技术是量子芯片。而

掌握量子芯片的制造方法和自主知识产权,也就成为了各国科研团队为之努力的第一目标。

值得骄傲的是,在量子芯片的研发方面,我国科学家已经率先获得重大突破。日前,国际顶级学术期刊《自然》发表了一篇论文。

论文内容显示

,南方科技大学的贺煜团队,创造性地利用扫描隧道显微镜技术,成功以单原子级别的精度将两个磷原子构成的量子点放置在

13nm间距上。

这是硅基量子芯片制造领域的里程碑式事件,也是制造硅基量子芯片的第一步。

笔者了解到,如果这项技术能够成熟且被大规模应用,那么硅基量子芯片的面世将指日可待。

要知道,两年前,我国在量子计算领域还落后于美国。但今时不同往日,中国用种种成绩证明,中国科技已经走在世界前列。

虽然在某些方面仍落后于美国,但终有一天,中国会再一次用实力震惊世界。

/谛林

审核/子扬 校正/知秋

  • 发表于:
  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20210126A00A7500?refer=cp_1026
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