南大光电：ArF光刻胶验证工作在顺利推进中

集微网消息（文/姜翠）5月13日，南大光电在投资者互动平台上表示，ArF光刻胶验证工作在顺利推进中。目前主要的检测设备如光刻机已经安装并投入使用，但符合公司要求的缺陷检测设备目前市场上比较稀缺，公司正在努力推进采购工作。

资料显示，南大光电是从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料等三大关键半导体材料的研发、生产和销售的高新技术企业，产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED、第三代半导体、光伏和半导体激光器的生产制造。

南大光电在技术方面占据一定优势，公司凭借多年的自主研发和实践积累，掌握了MO源、高纯ALD/CVD前驱体、氢类电子特气、含氟电子特气、ArF光刻胶等关键电子材料的核心技术，先后承担了国家863计划MO源全系列产品产业化项目及多项国家“02专项”，攻克了多个困扰我国数十年的技术难题，填补了多项国内空白，为半导体产业链的协同发展贡献力量。同时，公司持续技术革新和精益管理，促进产品品质不断提升、产品成本不断下降，持续提高经济效益，保证了公司在市场竞争中的领先优势。在长期的发展过程中，公司形成了较为完备的研发设计体系，通过逐年加大科研力度，技术实力不断增强。截止2021年底，公司及主要子公司自主开发的专利共计104项，其中发明专利32项，实用新型专利72项。

南大光电表示，公司坚定围绕“为用户提供更安全、经济、绿色的高品质电子材料，成为国内一流，具有国际竞争力的电子材料公司”这一战略目标，坚守“真正的高科技、真正的产业化、真正的全球化”发展标准，践行“安全第一、以客户为中心、以业绩为标准”三项基本原则，聚焦主业，不断发展壮大，力争实现“前驱体材料国际领先，电子特气国内一流，ArF光刻胶成功产业化”。

（校对/Andy）