

1. 通信领域存在两条对标 CMOS 摩尔定律的带宽增长定律:
2. 对应数据中心互连:模块容量大约每 1.5‑2 年实现翻倍。
3. 市场迭代节奏:10G‑40G → 100G → 400G (2023‑2026)→ 800G (2025‑2028)→ 1.6T 及以上 (2025后)。

4. 400 G/lane及以上速率无法依靠单纯硬件暴力提升无限演进,电子、光学器件都遇到严重瓶颈:
5. 突破 400Gbps / 通道可选路径:升级调制格式PAM4→PAM8、选用更高带宽元器件、相干传输、WDM 单通道多波长,或是多项技术组合。
报告聚焦单通道速率(不是模块总带宽)与光收发器光子部分;电光收发核心器件包含:调制器、DSP/SERDES、TIA / 驱动器等集成电路、光电二极管。

1. 200Gbps / 通道:已落地商用
- 典型方案:PAM4调制格式、硅 MZM+DFB 激光器、Ge 光电二极管、SiGe BiCMOS 的 TIA / 驱动器、先进逻辑 DSP/SERDES,IM/DD 直调直检、单波长架构。
2. 400Gbps / 通道:仅处于演示阶段,几乎整套器件都碰到物理极限:
调制器是光子系统最核心器件,报告逐一评估硅基 MZM、MRM 微环、SiGe‑EAM,三者均在 400Gbps / 通道场景暴露短板:

1. Si MZM 马赫‑曾德尔调制器:即使采用透明电极等改良结构,带宽提升依旧存在天花板,驱动电压高,PN 结带来固有限制。

2. MRM 微环调制器:面积小、驱动电压低,但对温度极度敏感、工艺严苛;消光比与速率互相取舍,不适合 400G 及以上场景。

3. SiGe EAM 电吸收调制器:尺寸小、驱动电压低;但是啁啾色散大,传输距离受限,适合短距,长距 / 超高速场景劣势明显。

4. 其他备选材料调制器:InP EML/MZM、TFLN MZM、有机、石墨烯、薄膜钽酸锂诸多材料中,其中InP、TFLN 成熟度最高,InP供应链紧缺,TFLN 薄膜铌酸锂发展势头强劲。

5. TFLN薄膜铌酸锂

优势:低损耗、带宽>110GHz、热稳定性好、线性度极佳,既适合CoherentLite 方案,也适配 400Gbps/lane IMDD 直调直检;
劣势:器件尺寸大、成本高于硅基,和硅光子集成需要异质集成或者先进封装;
集成技术:微转印、先进封装是主流集成技术,铌酸锂各类新应用正在快速开发。

UMC TFLN调制器进展:UMC2021 启动 TFLN 项目,6 英寸已经量产,8 英寸处于样品阶段。

200Gbps 场景下性能够用(带宽 50GHz 以上),400Gbps / 通道场景带宽余量不足;可通过工艺、设计优化勉强尝试支持 400G,但能否突破 400Gbps 存在巨大不确定性。
InP 光电二极管性能好,但成本昂贵、集成难度高;业界亟需可替代材料,GeSn、SiSn 等新型替代材料尚处于早期研发阶段。

传统相干只用于长距离电信,体积大、功耗高;Coherent Lite 面向数据中心短距互连,用来缓解带宽压力,OCS 光路交换带来约 3dB 额外光损耗,Coherent Lite 接收机灵敏度增益刚好补偿该损耗,这是其产业兴起重要动因。
Coherent Lite与电信相干差异:低色散O 波段工作、短传输距离 2‑20km、单偏振、硬件简化、更低功耗、更低成本;TFLN 凭借超高线性度是 Coherent Lite 的最优调制器。

WDM是更高单纤速率以及CPO 共封装光学扩容的关键技术路线,通过在同一个通道内部复用多路波长,分为 DWDM(≥8 波长)、CWDM(<8 波长)。短期看可通过分立多激光器容易实现;长期看光梳激光器功率效率更优,更具备发展潜力。

1. 如果走单纯 IM‑DD、不使用 WDM 的路线实现 400G/lane,高度仰赖 TFLN/InP 高性能调制器,以及光探测器材料层面的突破,仅靠设计优化很难达成。
2. 行业不会单纯压榨单个器件带宽;WDM+PAM8 + Coherent相干的组合方案可能是更可行的路线。
3. DCI 单通道速率Scaling Law可能会是一个非线性增长过程。短期内由于引入 WDM、相干算法,以及 TFLN、InP 等非硅材料,光模块复杂度显著提升,速率提升节奏将会放缓。但随着其中某项技术的产业突破,可能会出现一个迅速提升。
4. 未来带宽扩容的重心,将转向异质集成、新型光子平台,而不是一味追求把单个器件带宽做到更大。