ASML传递最新消息，DUV光刻机出货状况出现变化

ASML传递最新消息，DUV光刻机出货状况出现变化

ASML已认识到美国进一步限制了DUV光刻机的出货范围，但这不会影响2023年的收入，这意味着ASML目前可以继续出货DUV光刻机。

芯片的生产制造离不开光刻机，光刻机制造技术最先进的是ASML，但ASML的EUV光刻机是生产出来的，不能随意出厂。

目前，美国还在继续向ASML施压，要求其进一步扩大DUV光刻机的供应范围。

据了解，自去年10月以来，美国一直在向ASML施压，要求将DUV光刻技术从后置系列中移除，但遭到了ASML的拒绝。

但美国进一步修改芯片规则，限制来自美国等半导体设备公司的出货量，ASML表示，采用美国技术的光刻机受到限制，对出货量的影响也有限。

但出乎意料的是，美国与日本、荷兰联合组团限制半导体设备的出货量，日本方面也承认将从今年春季开始限制半导体设备的出货量。

这意味着限制协议已经达成，ASML将继续受到约束。

ASML还掩盖了一个事实，即新规定不会影响ASML在2023年的收入，而且该政策还将实施一段时间，因此未来是不确定的。

事实上，ASML的DUV光刻机供应发生了一些变化，这些变化对其影响之大，ASML一直在否认，但这是没有办法的事。

数据显示，国内市场是ASML的第三大市场，对收入的贡献率超过14%，但由于规则不断变化，国内市场的贡献率已降至10%，这导致ASML的出货量受到影响。

要知道，全球先进制程芯片的产能已经高于成熟制程，但成熟制程仍然缺乏，DUV光刻技术主要用于生产14nm及以上制程的芯片。

ASML的主要收入来自DUV光刻机，ASML还计划将DUV光刻机的产能提高到600台，此前的出货限制不仅影响了ASML的收入，还加剧了全球的核心短缺。

其次，ASML在光刻技术方面已达到瓶颈，并认识到HighNAEUV光刻技术将是最后一代技术，荷兰已在光电芯片领域投资11亿欧元，目的是打造另一个ASML。

一旦ASML在光刻技术供应方面受到进一步限制，它很可能会加速开发其他晶圆技术。

目前，国内制造商已开始在光电芯片、量子芯片和小型芯片封装技术方面发力。

目前，华为在光电晶圆领域处于领先地位，还发布了一系列与堆叠晶圆相关的技术，主要解决堆叠方法和功耗等问题，减少或不依赖ASML光刻机。

在量子芯片方面，最新的"悟空"量子计算机即将面世，量子芯片生产线正在紧锣密鼓地生产。

在小药片封装技术方面，国内生产厂家已突破4纳米，长电科技研发的先进封装技术已开始为国际客户批量生产药片。

主要是上海微电子等国内制造商在先进光刻技术方面取得了一些进展。

例如，上海微电子的28纳米精密光刻机已通过技术认证，并与盈泰克激光公司在光源技术方面开展合作。

国内其他厂商也在光学光刻显示系统、双片工作台核心技术等方面取得了进步，加速了国内先进光刻技术的到来。