第一台原子层沉积设备的发明故事

第一台原子层沉积设备源于芬兰科学家Tuomo Suntola的发明。

20世纪70年代，Tuomo Suntola在开发薄膜电致发光显示器（TFEL）时，发明了原子层外延（ALE）技术，即后来的ALD技术。他最初用元素Zn和S进行实验以生长ZnS薄膜，并基于希腊语“epitaxy”（意为“排列在上面”）将其命名。此后，他将反应装置从高真空反应器改为惰性气体反应器，使得金属氯化物、硫化氢和水蒸气等化合物反应物得以应用，推动了技术的重大突破。1974年，Tuomo Suntola申请了相关专利，专利名称为“method for producing compound thin films”。1980年，该技术在SID会议上首次公开，展示了由ZnS层和两个氧化铝介电层组成的TFEL显示原型。