上海精测半导体光学关键尺寸测量设备通过多家客户验证并全面投入使用

集微网消息，近日，上海精测半导体光学关键尺寸（OCD）测量设备EPROFILE 300FD再度通过关键客户28nm工艺验证，顺利进入量产生产线并全面投入使用，获得多家客户认可。

图源：上海精测半导体

据悉，光学关键尺寸（OCD）测量设备是半导体先进制程所必需的关键设备，此类设备面临技术开发难度大、产品应用建模复杂度高以及工艺验证周期长等诸多挑战。

上海精测半导体官方消息显示，自2018年成立以来，依托子公司颐光科技在此领域近十年的技术积累，上海精测半导体聚集产业界各路技术专家，相继完成了包括设备硬件系统、软件算法、稳定性动态补偿、在线matching校准、工艺应用等在内的多项高难度技术攻关，开发出了国内独有、具备完全自主知识产权的光学关键尺寸（OCD）测量设备，且该测量设备的核心部件-RCRC全穆勒椭偏光谱测头、高稳定性整机平台及工业级电磁场仿真平台软件均实现自主国产化。（校对/诺离）