ASML“闹剧”结束了，荷兰正式宣布，人民日报：不能再抱幻想

由于《瓦森纳协定》的存在，荷兰ASML公司始终无法向我国出货最高端的EUV光刻机，这导致中芯国际以及整个大陆市场都无法生产7nm以下高端芯片。不过，在DUV光刻机方面，ASML却优先供给中企客户。

对于美国的限制规则，ASML总裁Peter曾公开发出警告，称中国市场无可替代，对华“断链脱钩”，或将导致全球半导体供应链陷入瘫痪。在过去几年时间里，ASML多次“加码”中国市场，例如设立更多的办事处、开发中心、维修中心，把员工规模扩大至1700人等等。

早在去年10月底，美国与日、荷开始密谋三方协议，主要内容就是限制核心半导体设备材料对大陆市场出口。只不过，三方担心遭到中国的反制，一直没有将此事对外公开。

反倒是ASML，在今年初提前透露了该消息，一方面是希望借助舆论压力来阻止三方协议的达成，另一方面，则是提醒中企客户早做准备，趁着三方协议落地之前，尽可能的采购所需的DUV光刻机。

作为三方协议的参与者，前段时间日本已公对华禁令的细节，从7月23日起，将对23种材料设备实施出口管制措施，确定把限制范围扩大到45nm。而荷兰这边却迟迟没有敲定细节。

鉴于中国市场对ASML的重要性，不少业内人士都对荷兰持积极态度，认为它不会像日本一样过度解读规则、“自废武功”。可万万没想到，近日随着一则重磅消息的传出，基本意味着光刻机已尘埃落定，ASML的“闹剧”也结束了。

据外媒报道，在6月30日，荷兰已敲定了所有的限制条例，并正式宣布对华实施禁令，于2023年9月1日正式生效，最先进的沉积设备，以及浸润式光刻系统，也就是DUV光刻机，均将被列入管控清单。

对此，ASML也进行了确认，表示会继续遵守荷兰、欧美以及美国的出口管制条例。至于具体细节，如ASML之前预测的一样，大部分类型的DUV光刻机都会被限制，但并不是全部。

其中分界点是NXT：2000i这款DUV光刻机，包括这款在内更先进的DUV设备，需要获得相关许可才能对中企供应，而NXT：1980Di这款分辨率为38nm的低端DUV光刻机，则不受限制。

那么，NXT：1980Di这款DUV光刻机对我们国产芯片的发展有什么样的帮助呢？从ASML官网介绍不难看出，该低端DUV光刻机主要应用于38nm以上成熟制程，经过多重曝光技术，也可以生产28nm/14nm甚至是7nm工艺芯片。

但需要注意的是，多重曝光的次数越多，芯片的良率、性能就越难控制，成本也会大幅提升。国内采购该设备，最多只会用于14nm/28nm等成熟工艺芯片的生产，而先进的7nm制程，只存在于理论层面。

不可否认，28nm成熟制程能满足超过70%的市场需求，如新能源汽车、5G基站、医疗设备等等。但科技进步的关键是创新，成熟芯片在创新技术领域所能起到的作用可以说极其有限，如当下持续火爆的人工智能行业，只有使用高性能计算的高端Al芯片，才能完成大模型训练测试。

这就是老美极力促成三方协议的目的，把中国半导体“锁死”在14nm以上成熟工艺领域，从而导致我们在尖端科技研发方面再次处于跟跑西方的境地。

如今随着荷兰宣布新规，我们也该彻底清醒了。正如人民日报所说：核心技术买不来，外企靠不住，我们不能再抱有任何不切实际的幻想，中国半导体的崛起之路没有捷径，只有脚踏实地、加大研发，身体力行的全面完成国产化替代，才能从根本上摆脱受制于人的局面。

庆幸的是，自从华为遭遇美国制裁后，国内就加快了对光刻机等垄断技术设备的研发。截至目前，上海微电子已突破28nm光刻机，正处最后的技术认证阶段，还有极紫外光源、高精度弧形反射镜系统、超高精度真空双工件台三大核心技术，也陆续被中科院等攻克。

可以预料，在举国上下的团结努力下，我们一定会拥有属于自己的中高端光刻机产品，其价格也会像盾构机一样，被物美价廉的中国制造打下来。至于盲目追随老美脚步的荷兰和日本，或将会把自家企业推向“万丈深渊”。