在苏联解体后,中国成为世界上最大的社会主义国家。这使得以美国为首的资本主义国家感受到了潜在的威胁。 1996年7月,在美国的主导下,超过30个西方国家一起签订了“瓦森纳协定”,再次对社会主义国家实行禁运和贸易限制。而中国则成为了“瓦森纳协定”关注的重点。
2015年之后,中国本土逐渐成长出了以中微半导体为代表的多家半导体刻蚀设备供应商(比如主攻硅刻蚀和金属刻蚀的北方华创等),且因中微在等离子体刻蚀机的质量和数量上逐渐比肩国际大厂,跻身一线水平,美国商务部也因此取消了对中国刻蚀机的出口管制。瓦森纳清单被突破一条 。
我国突破“瓦森纳协定”,国外对于我国的高新技术和设备的限制逐渐减小,未来我国半导体设备投入或将大幅度上升,集成电路产业的投产可能出现新的热潮,这将使得我国集成电路产业的进入高速发展的快车道。
综上所述,半导体刻蚀技术的突破以至领先只是我国半导体设备高端化之路的第一步,在更为关键且挑战巨大的光刻技术方面,实际上我国也并没有落后多少,因此我们也不必妄自菲薄。
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