再传捷报，中国巨头突破芯片制造关键技术，为国产芯片添砖加瓦

伴随着美国商务部对华为封锁措施的不断加剧，管辖范围更是从美国本土扩展到了全球芯片供应链上的法案修改后，不仅使得这家身为中国高科技代表的公司发展陷入到了举步维艰的境地，同时也在一定程度上揭开了中国电子产业结构在芯片领域受限于人的遮羞布，使得外界对中国芯片实现独立自主化寄予了高度期望。

虽然从实际的角度来分析，一块指甲般大小的芯片并不起眼，但就是这样微不足道的芯片，却是一大门槛要求较高的行业，一般都需要2000-5000道工序才能制作完成，所以当前芯片制造环节也成为了困扰中国芯片实现独立自主的一大难题。

大家都知道，光刻机在这个芯片制造中扮演着至关重要的角色，而光刻胶则是制造工艺中不可或缺的化学材料。或许在相较之下，外界对光刻胶的关注度不及光刻机，但要知道光刻胶也是高精度芯片制程的制约环节，如果不解决光刻胶问题，那么3nm乃至1nm芯片将难以实现生产，由此，足以看出光刻胶的重要性与工艺难度。

根据公开资料显示，全球光刻胶市场基本都是由日本企业独占半壁江山，市场份额一度达到了72%。由于长时间以来我国在光刻胶领域都处于空白，最终导致我国在全球光刻胶领域的占有率不到10%。好在国家和各行各业的重视和投入下，国产光刻胶也传来了捷报。

根据媒体在近期的报道，上海新阳在光刻胶领域突破了芯片制造关键技术，以包括光刻胶、刻蚀后清洗液等在内的集成电路制造广建工艺材料为发展方向，目前已经突破了美日垄断，具备了光刻胶关键技术，生产出最为先进的光刻胶，真正做到了为国产芯片添砖加瓦。

在前段时间，《瓦森纳协议》的修改或将扩大半导体技术出口管制范围的消息让外界不禁担心光刻胶或许会成为下一个管制的目标，而上海新阳当前的成绩也解决了国产芯片制造的燃眉之急。据悉，目前由上海新阳自主研发的光刻胶已经成功运用在了上海微电子的光刻机上。

值得一提的是，被国人寄予厚望，且实现芯片制造独立自主化最为关键一环的中芯国际也是上海新阳的重要客服，当前中芯国际所采用的多款晶圆制造工艺材料基本都来自于上海新阳。所以从种种丰功伟绩来看，上海新阳将会是中国芯片独立自主化不容小觑的一大巨头。