西方“打死不卖”的光刻机，中国能自研吗？专家给出答案

我们现在的光刻机能够自己研制吗？前两天上海微电子22nm光刻机浮出水面，让我们对于我国的光刻机确实比较期待，但是我们只看到了一些捕风捉影的信息，难道上海微电子真的研发出了22nm光刻机吗？

实际上，我们目前销售的是90nm工艺的光刻机，这个光刻机和市面上销售的7nm EUV光刻机还是有差别的。特别是目前ASML的光刻机几乎垄断了高端市场。

为何不卖给我们？我们一直在思考这个问题。

1.美国等西方国家签订了一份叫做【瓦森纳协定】的文件，这个文件是这样规定的——“瓦森纳安排” 某一国家拟向中国出口某项高技术时，美国会直接出面干涉。

2.光刻机技术涉及到80000个零部件，这些零部件来自于世界各地，比如美国的光源，德国的镜头等等，这些内容真的会影响我们去发展光刻机技术，且不说我们的硅基半导体被西方等国家给垄断，所以我们想要发展光刻机技术的话，这些内容一定成为我们制约因素。

我们在5月26日发现，北京元芯碳基集成电路研究院宣布，该院中国科学院院士北京大学教授彭练矛和张志勇教授带领的团队，解决了长期困扰碳基半导体材料制备的瓶颈。