努力探索！国产光刻胶推进研发进度，193nm产品进入测试阶段
芯片作为我们当代电子化智能设备之中关键性的组成部分，直接决定着相应设备的存储功能，以及运行速度的智能化程度。
芯片的诞生为我们解决了很多难题，带来了更多的便利，然而芯片的研发与生产却不是一件便利的事情，其中涉及诸多复杂的高科技技术，构成芯片的每一个组件都蕴含着科学家们长久的探索与努力。
今天我们要为大家介绍的是该领域一款重要的材料，叫做光刻胶，当前我国国产光刻胶企业正全力推进其研发进度，南大的光电193纳米产品已经进入了测试阶段。
光刻胶作为半导体行业比较常见的一种材料，主要在半导体行业中微细图形的加工过程中发挥作用，随着近些年来芯片的精细化程度越来越高，光刻胶的使用率也得到了极大的提高。
然而在国际市场上，很少有企业具备成熟的光刻胶生产技术，少数技术完备的几个企业也多来自于美日韩这三个国家，在光刻胶市场之中，中国企业的存在感是极低的，其所占据的市场份额在百分之十以下。
技术不断发展完善的中国企业自然是不甘心于在这一领域落后于人的，因此国内相关厂商也加大了在该领域的投入，希望能够有所成果。其中我国一家叫做南大光电的企业一向被看作是光刻胶领域的热门企业，也是一家具有经济实力的企业。
通过该公司的相关报道，我们了解到该公司已然经光刻胶定位为企业的重点攻克项目，并且已然有了一些成果，当前该公司研发的光刻胶已经进入了最后的产品测试阶段，进展顺利的话将在今年年底结束测试工作，之后正式投入大规模的生产之中。
综合来看，作为一家大型企业，南大光电并没有将全部精力放置于光刻胶研制领域，而是将这一项目交由其旗下位于宁波的一个子公司来完成，其除了光刻胶之外，南大光电还研究电子材料领域的其他产品。
好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！
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