国产光刻机要继续努力！ASML发布全新光刻技术，5nm产能暴涨600％

光刻机设备生产商荷兰ASML公司今日在官网上宣布，它们已经完成了用于5nm及更先进工艺的第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000的研发及测试，目前，首台多波束检测系统已于本周交付客户进行鉴定。

作为全球知名的光刻机设备生产商，荷兰ASML公司几乎垄断了全球的高端光刻机生产，目前全球14nm及其以上的光刻机几乎都是由ASML公司生产的。

据ASML公司公布的消息显示，HMI eScan1000能够同时产生、控制九道电子束，与单个电子束检查工具相比，将使吞吐量提高达600％，这意味着在使用这套系统时，产能将得到600%的增长。

根据此前ASML公司公布的资料整理得知，新的MBI系统包括一个电子光学系统，能够创建和控制多个初级电子波束，然后收集和处理产生的次级电子波束，将波束之间的串扰限制在2%以内，并提供一致的成像质量。

在5G迈向高速发展之际，各大厂商对于算力的需求将进一步扩大，而这种高算力必须依赖于更加先进的半导体工艺，所以本次的第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000也算是应运而生，为晶圆代工厂带来了更高的产能。

不过对于国产的晶圆厂商来说，目前几乎不可能能够获得搭载HMI eScan1000技术的光刻机，目前以中芯国际为代表的晶圆代工厂还在努力的引进初代7nm工艺光刻机，而国产的光刻机设备，更是还有相当长的路要走。

本质上，荷兰ASML公司的光刻机也是全球多个国家的尖端技术的集大成者，主要的技术和零部件几乎都来自日韩美等国家，相比之下，我国的光刻机发展面临的困难要大得多，所有的一切都得自己摸索。