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中国芯甩出王炸!国产光刻机打破技术封锁,没有ASML照样独立自主

在全球科技发展史中,我国一直都扮演着追随者的角色,即便在科技强国的道理下,我国在通信、互联网等层面的发展程度已经超过了欧美国家,但最为关键的芯片,我国企业依旧受限于人。要知道,芯片作为电子产品的核心零件部分,直接决定了产品的性能,所以在缺乏芯片技术的情况下,也使得我国庞大电子产业结构不可避免需要面临风险。

大家都知道,芯片的研发和生产包括两大环节,一个是设计,另一个则是制造,可是困扰我国芯片产业发展的并非是设计环节,毕竟包括华为海思、紫光展锐等中国半导体公司均在芯片设计领域与国际水平接轨。可是随着时间的流逝,芯片制造环节也频繁传来了捷报。

当前上海微电子成功打破技术封锁,自主研发出28nm光刻机,预计在2021年交付首台国产28nm光刻机。虽然在相比之下,当前国产光刻机的工艺制程与荷兰ASML还有很大的差距,但这对于我国芯片发展产业而言,将会是一大重要的里程碑。至少在28nm生产环节,我国可以实现独立自主。

除了上海微电子之外,武汉甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9nm线宽的线段,实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。所以,一旦将该技术运用到光刻机领域,那么我国实现赶超荷兰ASML公司也指日可待。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200526A04TEG00?refer=cp_1026
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