美国这次玩大了！任正非正式宣布：华为芯片迎来突破，无需光刻机

前段时间的芯片禁令暴露了很多的问题，把芯片的生产分成的三个阶段，分别是芯片设计，芯片制造和芯片封测，其中芯片封测最简单，芯片制造最困难，而我国目前只有华为掌握了5nm芯片的设计能力，而中国的芯片制造能力与荷兰的ASML相差了至少两代技术以上。

光刻机想必大家也有了一些了解了，其实一开始我也是对这项科技一点都不熟悉，毕竟尖端科技那么多，我们不可能都接触过，但是美国的芯片禁令让这项科技进入了我们的视野当中，芯片禁令是美国针对华为的打击手段，其核心就是阻止华为生产芯片。

而生产芯片的核心设备就是光刻机，目前世界上光刻机实力最强的就是荷兰的ASML，相比之下，中国的光刻机技术水平只相当于人家的十年前的水准，可以说是有着巨大的差距。也正是因为光刻机技术的缺失，所以华为在美国的芯片禁令之下束手无策。

美国这次玩大了！任正非正式宣布：华为芯片迎来突破，无需光刻机。尽管华为在离开了芯片之后，损失惨重，就连自己旗下的子品牌荣耀都给卖掉了，但是华为没有放弃在芯片领域的研究，他在积蓄更大的能量，最后完成更大的突破。

很多人都以为，既然要在芯片领域完成突破，那前提应该就是光刻机了呀，但是华为对光刻机并没有什么研究呀，真的能够短时间内完成光刻机的研究吗？如果是光刻机的话，那华为还真的无法做到，所以华为这次是另辟蹊径。

华为研发出了屏幕芯片，对制程没有很高的要求，只需要50-60nm就完全够用了，中国自研的光刻机也可以生产，并且屏幕芯片是依托于华为5G技术研发的，两者相辅相成，一旦投入市场，将会对现有的智能手机格局产生巨大的冲击。