10年经费仅6亿，中企打破西方技术垄断，造出中国先进光刻机

众所周知，在光刻机市场当中，荷兰的ASML公司有着很强的技术实力，并且也几乎拿下了全球的光刻机市场份额，形成了其垄断地位，虽然说，我国在光刻机当中的发展，与荷兰ASML公司之间还有着一定的差距。

可是，国内的上海微电子企业在其发展起来之后，十年时间消耗经费6亿，逐渐的突破荷兰ASML公司的技术垄断，如今也已经造出了属于中国的光刻机。

现如今，伴随着我国自主创新能力的提高，有越来越多的本土企业逐渐的发展起来，在国内市场当中也有着很高的知名度，其影响力也是非常的大，除此之外，有一些本土企业甚至还走出了国门，在海外市场当中也得到了不少消费者的认可。

说到国内光刻机的发展，其实光刻机的制作工艺是十分的复杂，对技术人员的要求也是非常的高，里面所涉及到的技术门槛更是非常的高，而在早年间，由于我国在光刻机等其他大型科研设备当中，采取的是购买的想法，所以说，在光刻机的研发上，相比较于很多光刻机技术成熟的国家，的确是要晚了许多。

当时，我国在光刻机当中的发展，也因为研发的时间比较的晚，所以甚至还面临着被海外企业垄断的局面，海外企业所生产的光刻机，在国内当中拿下的市场份额是在不断的增大。

在后来，伴随着改革开放之后，我国也逐渐意识到自研自产大型科研设备，是有多么的重要，所以也就加快了自研自产的步伐。

说到光刻机，其实光刻机是制造芯片的重要设备，也是重要的环节，如果没有了光刻机，那么芯片也就没有办法完成制造，现在，我国的社会发展速度是十分的快，而在芯片的需求量上，是在呈现出不断增长的趋势。

但是，在芯片的需求量上涨之后，可是芯片的供应量却不能够及时的为我国所消耗，而我国也已经成为了芯片消耗大国，所以对光刻机的需求也就不断地增加。

早在此前，中芯国际就已经向荷兰的ASML公司订购了一台光刻机，可是这一台光刻机到现在仍然没有到付，也的确是会影响到国内半导体行业的发展。

再加上，来自美国方面的阻挠和阻碍，让我国的科技企业，甚至也面临着芯片断供的危机，在芯片饥荒严峻的情况之下，也越来越意识到自主研发光刻机是有多么的重要。

在1965年，我国就曾经推出了65型接触式光刻机，而这个光刻机的发展，也就预示着接下来我国在光刻机的自主研发道路上，还将面临着许多的弯弯绕绕，而接下来，我国也就开始了在光刻机的自主研发。

由于受到当时购买大型设备思想的影响，所以光刻机的发展，如今也影响到了我国的芯片制造，不过，在面临着被海外企业垄断的情况之下，依然有国内的本土企业深耕光刻机领域，其中就有国内的上海微电子。

上海微电子目前的制成工艺技术水平，已经是达到了90纳米的地步，但即使是达到了90纳米的工艺制作技术水平，和荷兰的ASML公司相比，其实还是有着很大的差距。

但是，上海微电子能够做到的就是，已经打破了西方的垄断局面，在我国的低端光刻机领域当中，也拿下了不少的市场份额，而且在这十年来，上海微电子在光刻机设备研发上的经费，仅消耗了6亿元，在面临着研发资金受限的情况之下，上海微电子还能够取得这样亮眼的成绩，这也还是不错的 ，也还是能够证明上海微电子的实力。

实际上，上海微电子的成立时间是比较的晚，是在2002年的时候成立的，但是，上海微电子在首台封装光刻机产品，交付的时间却是在2009年，这也就是说，上海微电子在短短七年的时间之内，就已经研发出了相关的产品，甚至还在技术上打破了垄断，有了属于自己的光刻机产品。

当然，在研发光刻机产品的背后，上海微电子走的每一步都是脚踏实地的，如今上海微电子所拿下的专利，就已经达到了3200项，在研发能力，包括其技术实力方面，其实都有了很明显的进步，上海微电子伴随着如今国家政策倾斜集成电路领域之后，如今其发展前景还是十分可观的。

同时，上海微电子也将会交付28纳米的光刻机产品，届时，能够更好的帮助我国光刻机领域的发展，甚至也能够带领着芯片制造业的发展。

虽然说，从整体上来看，我国光刻机领域的发展现状，还是存在着一定的问题，在光源以及光学模组上也会遇到很大的术门槛，不过，相信只要给足足够的时间，我国的企业也就能够逐步的突破技术门槛。

据悉，光刻机所涉及到的零部件，就已经达到了10万的数量，那么，任何一个企业在光刻机的生产上，都没有办法做到零部件百分百自研自产，哪怕是垄断了全球市场的ASML，公司在零部件的生产上，也是要依靠着从海外进口，由此来看，上海微电子在接下来光刻机的制造技术上来说，还是有着很大的进步空间。

总的来看，上海微电子的发展速度还是非常快的，其未来还是十分值得期待的，相信能够进一步的给国内的光刻机发展，做出更大的贡献。