央视传出新消息，0.1nm光镜镀膜设备投用，国产光刻机的最后拼图

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今天跟大家聊一聊：央视传出新消息，0.1nm的光镜镀膜设备投用，国产光刻机的最后拼图！

对于光刻机想必大家都不陌生，作为制造芯片的核心设备，集结了全球顶尖的科研成果，没有任何国家能够完成独立生产，目前只有荷兰的ASML能够组装出顶尖的EUV光刻机，国内芯片制造技术无法突破7nm瓶颈，主要原因就是无法获取到尖端的EUV光刻机。

目前在制造光刻机的核心部件上，国内已经间接攻克了双工件台、EUV光源等等技术，而研发难度相对较大EUV光学镜头上，也是国产光刻机最重要、同时也是最后的拼图，目前关于这项技术央视已经传出了好消息。

国产先进设备投入使用

由中科院研发一项新技术被央视报道，国内首台高能同步辐射光源设备，已经成功研发并于6月28开始安装测试，同时负责该设备技术研发、测试支撑能力的实验平台，已经正式进入到了试运行状态。

同时中科科仪研发的纳米聚焦镜镀膜装置，以及直线式劳埃透镜镀膜装置，也在当天正式测试运行。两家研究所取得的科研成就，单从名字上看就觉得高端，那这些设备的投入使用将会给我国半导体行业带来什么样的改变呢？这些设备的主要用途又是什么呢？

镜镀膜装置的作用

据了解此次中科科仪所推出的镜镀膜装置，其膜层制备工艺可以满足大多数的物理镜头，其中就包括了EUV光刻机当中的核心部件“光学镜头”，而光学镀膜实际上就是在镜头上镀上单层或多层薄膜，从而更好的适配光学零件对于光的不同需求，而这就是难度大、应用范围广的“真空镀膜”设备。

随着芯片制程工艺的不断提升，对于EUV光刻机的光学镜头光洁度的要求也越来越高，目前对于光洁度的要求是不能超过0.05nm，而目前最先进的制程工艺也仅为5nm，可想而知这项技术的难度有多大了，目前能够生产EUV光刻机光学镜头的也只有蔡司，而全球能够制备该镜头的工程师不超过20个。

0.1nm的光镜镀膜设备

此次中科科仪所研发的真空镀膜设备，已经能够将膜厚的精度很好的控制在0.1nm以内，相当于和国际的先进水平已经相差无几了，也足以达到制备光刻机光学镜头的条件了，更加难能可贵的是，从零部件到核心技术、到最终的运行测试都是由我们自主完成，真正实现了光镜镀膜设备的国产化。

目前上海微电子已经在研发国产光刻机了，据悉28nm光刻机所需要的技术已经研发完成，现在已经在等待最终的组装下线了，而此次攻克的光镀膜设备，可以很好的提高光刻镜头的水准，或许能够帮助上海微电子实现更为尖端的国产光刻机制造。

目前由中科院研发的高能同步辐射光源设备，截止到6月底已经安装了超过70%的进度，与之相匹配的相应设备，预计在2022年就能够全部搭建完成，并且正式投入商用，再配合上光镀膜设备，可以很好的助力国产光刻机的发展，也将给中国半导体领域带来更多的希望。

高能同步辐射光源设备的作用

此次由中科院研发的“高能同步辐射光源设备”，已经达到了国际上的顶尖水准，可以适用于航天航空以及半导体等等高端领域，同时这也是全球最亮的第四代同步辐射光源之一，高强度的光源可以有效降低芯片制造过程中，对于光刻机设备的精度要求，给国产芯片带来了全新的希望。

在该项技术诞生之后，很好的弥补了在该领域的空白，搭建起了重要的支撑平台，随着国家开始重视半导体产业，之后还将有先进的技术不断实现攻克，如今我们在半导体领域应该分为两步走，首先就是保持对于先进制程工艺的研发，以保持先进技术的留存，其次就是把重心放在对于成熟工艺的完全自主化量产上。

目前国内的科研氛围逐渐变好，也吸引了众多的海外博士归国，在有了中科院的助力之下，国产的半导体技术将迎来飞速的发展，完成了先进制程工艺的国产化布局，相关限制才得以彻底摆脱，对此你们有什么看法呢？