600亿投资助力“中国芯”，国产光刻机突破22纳米，荷兰光刻机再见

我国上半年为了大力发展芯片产业，助力“中国芯”的快速崛起，为此投入了600亿的资金。现在600亿资金已初见成效，国产光刻机成功突破22纳米，对荷兰光刻机说再见的日子不远了。

芯片领域被“卡脖子”

今年随着华为和美国的事情闹得沸沸扬扬，大众对于芯片这个东西的了解也越来越多。芯片的应用领域很多，不管是手机、电脑还是其他设备，都需要使用到芯片。但是由于技术的不足，这么多年来我们的芯片基本上都依赖于进口。而在我国芯片进口被限制之后，我们被“卡脖子”的情况出现了，为了改善这种情况，国家上半年在芯片领域投入了600亿资金，为的就是快速的实现属于我们自己的“中国芯”。

世上无难事，只怕有心人

用这句话来形容我们中国的科研状况，感觉是再适合不过了，而这也是一个很奇怪的现象。只要是西方对我们实行限制的领域，我们往往能够做出比平时更快、更大的突破，可能正是源于这份压力，我国的600亿投资效果显著。

总结

在我国科研人员的努力下，国产光刻机成功的突破了22纳米技术，虽然和荷兰最先进的5纳米光刻机仍有差距，但对我们来说却是一个良好的开端。俗话说：万事开头难。只要有了开始，那么接下来的突破速度肯定会加快很多，想必我们在未来追上荷兰也不是一件不可能的事情。对此朋友们如何看？