开始替换？中国光刻机传来好消息，芯片国产化指日可待

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开始替换？中国光刻机传来好消息，芯片国产化指日可待。

进入5G时代，人们日常生活中，所需要用到的的科技产品也越来越多，而科技产品的核心就是一颗小小的芯片。

但芯片的核心技术长期遭到西方巨头的垄断，比如华为在麒麟芯片有所突破之后。就遭到了芯片代工技术上的难题，国内的基础工业无法为华为提供芯片代工服务。

而美国修改芯片管理条例之后，市面上所有采用美国技术的半导体公司，均无法出货给华为。想要彻底解决芯片制造问题，就需要从根源上下手。替换掉无法使用的美国技术标准，逐步实现芯片的国产化制造。

为了尽快实现这一目标，中国顶级学府中科院的白院长对外界表态。中科院将会对光刻机等尖端技术的攻关，而随着中科院的入局，我国在光刻机领域也终于传来了好消息。

11月26日，上海微电子方面传来了新的消息，作为国内最先进的光刻机设备制造商。上海微电子对外界透漏，目前已经自主研发出了22纳米光刻机，并借助紫外线为光源实现了22纳米的光刻水准。

虽然，这只是一台22纳米级别的光刻机，但是，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片制造。对比荷兰AMSL所生产的5纳米EUV光刻机，我们还差得很远，但上海微电子无疑用行动证实了，我国并非造不出国产光刻机。

此前，上海微电子装备公司总经理贺荣明，就曾到访德国进行考察，当时就有国外工程师告诉他：“即便给你们全套图纸，你们也做不出来光刻机。”

如今，上海微电子却成功造出了22纳米级别的光刻机，这无疑是用行动打脸了对方。

芯片国产化指日可待

目前，不仅是国产光刻机有所突破，在芯片制造工艺上。芯动科技已经完成了N+1工艺下的芯片流片和测试，该工艺可以对7纳米以上的芯片进提供芯片加工服务。在芯片设计的EDA软件上，华大九天等软件公司也纷纷开始了布局。

同时，由于我国开始对光刻机的研发工作加大资金投入，荷兰光刻机制造商ASML多次表态，愿意为中国企业提供DUV光刻系统。

如今的局面是，在高端领域的芯片制造技术上，我们短期可能会跟不上来。但在中低端芯片市场中，我国的自给率上将会迅速得到提升。这也意味着，未来我国对外采购芯片的需求会变小，这对于很多国外的半导体公司而言，并不是一个好消息。

根据相关数据统计：中国每年的芯片进口额高达3000亿美元，国内芯片制造技术的逐步成熟。IP芯片的国产化指日可待，从而彻底替换掉市场中，原有需要进口的芯片产品。

写在最后

不得不承认，在高端的光刻机和芯片制造领域，我们仍然还有很大的技术差距。但在中低端的芯片市场，我们绝对有能力做到自给自足。限制企业对外芯片采购，只会促使我国的半导体行业发展愈发壮大。

事实上，在第三代半导体技术领域，中国已经开始有所领先。芯片制造技术落后和遭到卡脖子的局面，相信并不会持续太久。随着越来越多的技术迎来突破，国产芯片也会在海外市场站稳脚跟。对此，你是怎么看的呢？欢迎大家留言讨论！