再见了，荷兰光科技！国产光刻机突破22纳米，“中国芯”正强势崛起

最近，随着美国全面制裁华为的消息占据了各大新闻网的头条，“芯片”这个原本只属于电子行业的专有名词，再次成为了人们茶余饭后津津乐道的话题。

关于芯片，人们的疑问有很多，比如：我国为什么造不出高端芯片？我国为什么造不出高端光刻机？国产芯片什么时候才能取代进口芯片？我国高端芯片什么时候才能不被美国“卡脖子”？

从这一系列的问题中，也能看出我国网友对于我国芯片现存问题的急迫。但是，急有什么用呢？冰冻三尺非一日之寒，滴水石穿非一日之功。

我国在这个领域本就起步较晚，想一口气吃成胖子那是不可能的，只能在实践的过程中慢慢积累经验，寻求突破。好在，在科研人员不懈的努力下，中国芯片迎来了自己的机遇。

前不久，中国北斗三号芯片成功突破了22纳米的限制，而上海微电子技术也再次获得突破，成功研发出了22nm的光刻机。从技术角度来讲，虽然我国获得的突破和外国技术相比，还有一定差距，但从整体进程来看，我国半导体行业和外国的差距正在慢慢减小。

众所周知，在信息化时代，芯片就好比是一家科技企业的灵魂，没有芯片，就没有竞争力。而制造芯片的“光刻机”，更是被称为是“人类工业皇冠上的明珠”，造不出光刻机，就摆脱不了芯片被“卡脖子”的局面。

纵观全球，能造出“芯片”的企业不在少数，但有能力制造高端光刻机的企业，只有荷兰的ASML一家。因为掌握着全球独一无二的技术，使得ASML公司的市场占有率一度达到了80%。可能很多人想不到，如今芯片厂商所用的高端光刻机99%都是由荷兰的ASML公司提供的。

而荷兰ASML光刻机之所以如此受欢迎，是因为它生产的芯片，制作工艺可以达到5nm。而我国此前制造的光刻机，技术水平还停留在90nm左右。正因为此，这次国产22纳米光刻机的出现，才让很多人感到兴奋。

近年来，我国在芯片领域投入了巨大的人力和财力，仅今年上半年，就投了超过600亿的资金，足可以看出我国对于芯片事业的扶持力度之大。而随着我国在半导体领域不断获得突破，相信未来一定会造出精度更高的“中国芯”，摆脱对外国芯片以及荷兰ASML光刻机的依赖。