中科院研发5纳米光刻技术，能突破光刻机垄断吗？ASML：痴心妄想

现如今，随着我国改革开放的进行，国家的经济得到提升，我国在许多领域上都有着显著的进步与突破。例如我国的科技领域、勘探领域、制造业领域、贸易领域、基建领域等，都让许多国家为之刮目相看，可见中国发展速度之快了。

众所周知，芯片对于每个国家的发展而言，都起到了至关重要的作用。而芯片的制作需要光刻机，ASML可谓是垄断了全球的大部分光刻机。而中国的芯片发展，当然离不开ASML光刻机的帮助，而中国科技实力虽说有所进步，但想要实现“弯道超车”依旧非常困难。

但随着最近中科院研发的5纳米光刻技术曝光，引起了外界的一片沸腾，许多人都认为中国5纳米光刻技术，能够突破ASML光刻机的垄断，是中国芯片历史上的重大发展。但事实真的能突破光刻机的垄断吗？ASML吐槽说：痴心妄想！

虽然中科院所研发的5纳米超高精度激光光刻加工方法非常先进，但也仅适用于制作光掩膜。目前我国的国内所制作的掩膜版都是中低端的，装备和材料大多数都来自国外，所以即便这一技术实现了商用化，但想要突破光刻机的垄断，依然是一件极其困难的事情。

目前并没有任何一个国家，能够实现光刻机的自主制造，中国凭借着一己之力在短时间内，是不可能实现“弯道超车”的。但或许中国在石墨烯上的突破，能够实现“直道超车”也说不定，相信中国的科研人员，定能给予我们无限的可能。

不得不说，如今中国的发展已经得到了世界各国的认可与支持，这也离不开科研人员的不懈努力。对于这件事情，你是怎么看待的呢？欢迎在评论区说出你的看法和见解，与小伙伴们一起讨论一下吧！