芯片业新消息，国产DUV光刻机即将落地，7nm芯片或实现量产

数字时代的快速发展，5G、AI、云计算等新基建的崛起，使得芯片在这个时代被赋予了“数字时代石油”的角色。然而，我国面临着美国对科技巨头的芯片限制，这导致我国开始兴起一股“造芯潮”。然而，芯片制造的关键光刻机领域一直是我国长期被“卡脖子”的难题。

荷兰企业ASML在光刻机领域居于顶尖地位，不仅在高端EUV光刻机市场占据绝对垄断地位，也在DUV光刻机市场占据绝对优势。EUV光刻机可生产7nm、5nm和更先进的3nm等制程芯片，然而由于受到“禁令”的限制，我国无法进口EUV光刻机，这促使国内芯片制造企业寻求7nm及更先进制程技术的突破。

近日，有消息称上海微电子将推出28nm精度的DUV光刻机，这将是国产光刻机的新突破。这款光刻机不仅可以实现28nm、14nm工艺芯片的量产，还能顺利实现10nm、7nm工艺芯片的量产，而且不受美国技术限制。

然而，制造光刻机的难度巨大。一台高端EUV光刻机的零部件就需要10万多个，涉及数千家供应链企业。工程院院士吴汉明表示，要实现国产光刻机的发展，必须整合产业链，进行广泛的人才引进与合作，避免闭门造车、陷入“恶性循环”。

尽管光刻机、芯片制造领域面临巨大挑战，但在中科院等科研机构、企业的带领下，我们相信高端光刻机、芯片最终会解决这一难题。正如袁隆平院士所说，我们应该为理想而奋斗，而不是为了钱而偏离初衷。让我们共同期待我国光刻机与芯片产业不断发展壮大，为科技进步贡献更多力量。