好消息不止光刻机，国产巨头打破美日垄断，帮助7nm芯片实现突破

面对我国日益严峻的芯片“卡脖子”问题，我国不少相关企业正鼓足劲想要实现突破。

譬如，在光刻胶领域，我国领头企业上海新阳，便做出了一系列努力，希望能补足国产高端光刻胶短板。

ASML光刻机到位

俗话说“工欲善其事，必先利其器”，因此，上海新阳为推动高端光刻胶研发，采购来三台ASML-1400型号二手光刻机。

光刻机在2020年末时，已经陆续到达工厂并安装调试。而在日前，这些光刻机更是进入上海新阳合作方——北方集成电路技术创新中心有限公司的场地。

接下来，公司还将对光刻机进行安装调试。最终，这些光刻机将用作上海新阳193nm ArF干法光刻胶研发之中。

光刻机的到位，对于上海新阳来说，无疑是一件好消息，将更进一步推动公司研发。

攻克ArF光刻胶

上海新阳的好消息不止如此，其还正着力攻克高端光刻胶，力求打破海外企业垄断的境况。

为此，上海新阳投资7.32亿元，推动集成电路制造用高端光刻胶研发与产业化。上海新阳所买来的二手光刻机，也将为该项目服务。

据悉，该项目以193nm ArF干法光刻胶为主要攻克方向。

193nm ArF干法光刻胶在多次曝光后，可以用在第一代7nm制程上。

助力突破7nm

光刻胶不仅与晶圆质量、品质相关，而且限制着芯片最高精度。因此，193nm ArF光刻胶的突破，对于我国尽早实现7nm工艺来说，十分重要。

可惜的是，在高端的KrF光刻胶、ArF光刻胶领域，我国被垄断的境况还十分严峻，几乎完全依赖进口。

据前瞻产业研究院整理的一份数据显示，我国在这两大领域的国产化率，仅为1%，情况不容乐观。

这威胁我国芯片产业安全，拖累了国产芯片的发展，令人担忧。

为此，上海新阳等企业，已经在193nm ArF干法光刻胶等领域，加速前进。

按照计划，在2022年时，上海新阳193nm ArF光刻胶将实现少量销售。而在2023年时，上海新阳便能够实现量产。这对于国产7nm芯片来说，无疑是一个好消息。

中国光刻胶突围

不只是上海新阳，南大光电、晶瑞股份等行业龙头企业，也都在近两年来，取得了优异的成绩。譬如，2020年，南大光电研发出我国首支通过产品验证的国产ArF光刻胶。

在这些企业的努力之下，中国7nm芯片将迎来曙光。

文/BU 审核/羽西