上海微电子已经成功生产光刻机处于什么水平？

上海微电子可以制造光刻机不是什么新鲜事，人家从2002年就开始立项研发光刻机，只是技术实在落后，人才又缺乏，因此进展一直比较缓慢。不过进入2010年后国产研发团队不断攻克光刻机核心子系统的技术南广，未来国产光刻机将会迎来较快的发展，基本上可以从低端跃至中端，然后将向最后的高端领域发起冲击。

目前国内研发光刻机的厂商不少，但属于领先地位的就只有上海微电子，能量产的90nm光刻机，其他厂商只能生产200nm、300nm这样的光刻机，但在全球光刻机领域上海微电子属于低端。目前，有消息称上海微电子正在研发28nm节点光刻机，但实际情况未知，如果说这台28nm节点的光刻机能研发成功，那么我国芯片生产或将基本解决自主问题。

因为28nm节点的光刻机不仅仅只能用来生产28nm制程芯片，通过套刻多重曝光可以实现10nm芯片，如果代工厂技术过关，甚至可以实现7nm制程芯片。这意味着在芯片制造设备领域，我们可以实现较为先进的芯片技术，至于具体能不能生产就看中芯这类代工厂的生产技术了。

全球能做光刻机的厂商其实没几家，除了荷兰ASML，剩下就是日系厂商尼康和佳能，以及我们的上海微电子。但是从这2年的发展来看，未来这个领域应该只有上海微电子和ASML竞争，日系厂商基本属于出局状态，这块它们不愿意再进行大量的投资，一句话烧不起这钱。

截至2020年，国产光刻机已经解决双工件台、浸液系统、准分子激光光源等核心子系统，基本扫清了光刻机的主要技术难关，这些子系统如果放眼全球，基本上都是全球第二或第三掌握这些技术的厂商。另外最先进光刻机使用的EUV光源，国内也正在研发中，按早前的规划似乎要到2030年。

综合来说，现阶段国产光刻机正逐步发展中，也取得了一定的成绩，如果小道消息靠谱，那预估5年内或许可以有较为先进的光刻机（28nm节点光刻机）。但是要想真正冲击高端领域，还需要花费很长的时间，至少10年起步甚至要更长时间。