打破美国技术封锁！国产光刻机传来好消息，这次三星也只能羡慕

众所周知，在进入了高速发展的信息化时代后，电子产品开始在人们的生活中扮演着至关重要的角色。毕竟在互联网的时代背景下，人与人之间的沟通交流根本无法脱离芯片而独立存在。可是电子产品虽然重要，但是蕴含在电子产品中的小小芯片同样也起着至关重要的作用。

也就是因为如此关键的核心技术，芯片一直以来都是我国科技发展史上最大的短板。我国科技企业在研发新产品之际，所谓的芯片基本都需要强烈依赖于进口，稍有不慎还需要面临着外国企业的断供，而中兴、华为事件的接连发生，不就说明了掌握核心技术的重要性。

当然，芯片技术的掌握固然重要，但是在没有较为先进的光刻机支持下，制造芯片也只是痴人说梦而已。而中国芯片技术之所以落后于国外，原因与光刻机的稀缺同样也有着很大关系，再加上美国的技术封锁，导致我国的芯片制造业一直都处于停滞不前的状态。

大家都知道，全球最顶尖的光刻机都出自于荷兰ASML公司，但由于ASML在核心零部件方面严重依赖于进口美国，这也导致了美国依旧可以间接迫使ASML对中国企业禁售先进光刻机，即便是花再多的钱也不可能买到。不仅如此，为了限制中国芯片的发展，ASML公司从未应聘过中国员工。

或许在绝大部分用户看来，ASML公司其实也没多了不起，但是要知道一旦停止出售光刻机台积电、三星和英特尔，那么这些芯片巨头的发展也只能停滞不前。虽然从目前的情况来看，中国目前也拥有着自主研发的光刻机，但是制造工艺也仅限于90nm水平，倘若是用此来制造军用和航天芯片是完全可以的，但是用来制造消费类的电子产品，那么根本就没有任何优势可言。

时至今日，伴随着我国科研人员的不懈努力，我国终于打破了美国的技术封锁，国产光刻机传来好消息，自主研发的14nm先进制程工艺光刻机已经初步通过专家组的验收和审核，但进入量产阶段还需要一定的时间。但是这样的消息对于中国芯片的发展史而言，可谓是一个重要的里程碑。至于三星，这次也只有羡慕的命了，毕竟从现在的情况来看，韩国并未掌握着自研光刻机技术。

而在最后个人想要说的是，虽然我国已经成功突破了14nm先进制程工艺光刻机的技术壁垒，但是就目前而言，全球最顶尖的芯片制造工艺为7nm，所以在取得如此成绩后我们也无需太多自满，更多的则是需要客观对待。