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打破美国技术封锁!国产光刻机传来好消息,这次三星也只能羡慕

众所周知,在进入了高速发展的信息化时代后,电子产品开始在人们的生活中扮演着至关重要的角色。毕竟在互联网的时代背景下,人与人之间的沟通交流根本无法脱离芯片而独立存在。可是电子产品虽然重要,但是蕴含在电子产品中的小小芯片同样也起着至关重要的作用。

也就是因为如此关键的核心技术,芯片一直以来都是我国科技发展史上最大的短板。我国科技企业在研发新产品之际,所谓的芯片基本都需要强烈依赖于进口,稍有不慎还需要面临着外国企业的断供,而中兴、华为事件的接连发生,不就说明了掌握核心技术的重要性。

当然,芯片技术的掌握固然重要,但是在没有较为先进的光刻机支持下,制造芯片也只是痴人说梦而已。而中国芯片技术之所以落后于国外,原因与光刻机的稀缺同样也有着很大关系,再加上美国的技术封锁,导致我国的芯片制造业一直都处于停滞不前的状态。

大家都知道,全球最顶尖的光刻机都出自于荷兰ASML公司,但由于ASML在核心零部件方面严重依赖于进口美国,这也导致了美国依旧可以间接迫使ASML对中国企业禁售先进光刻机,即便是花再多的钱也不可能买到。不仅如此,为了限制中国芯片的发展,ASML公司从未应聘过中国员工。

或许在绝大部分用户看来,ASML公司其实也没多了不起,但是要知道一旦停止出售光刻机台积电、三星和英特尔,那么这些芯片巨头的发展也只能停滞不前。虽然从目前的情况来看,中国目前也拥有着自主研发的光刻机,但是制造工艺也仅限于90nm水平,倘若是用此来制造军用和航天芯片是完全可以的,但是用来制造消费类的电子产品,那么根本就没有任何优势可言。

时至今日,伴随着我国科研人员的不懈努力,我国终于打破了美国的技术封锁,国产光刻机传来好消息,自主研发的14nm先进制程工艺光刻机已经初步通过专家组的验收和审核,但进入量产阶段还需要一定的时间。但是这样的消息对于中国芯片的发展史而言,可谓是一个重要的里程碑。至于三星,这次也只有羡慕的命了,毕竟从现在的情况来看,韩国并未掌握着自研光刻机技术。

而在最后个人想要说的是,虽然我国已经成功突破了14nm先进制程工艺光刻机的技术壁垒,但是就目前而言,全球最顶尖的芯片制造工艺为7nm,所以在取得如此成绩后我们也无需太多自满,更多的则是需要客观对待。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20190827A0EMQ700?refer=cp_1026
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