再获重大进展！上海新阳传来好消息，半导体关键材料研制加快

光刻机是制造芯片的核心装备，是芯片制造的技术基石。芯片良品率取决于晶圆厂整体水平，但加工精度完全取决于核心——光刻机。一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高，但传统光刻技术却受到光学衍射效应的影响。

由于受制于光刻机、人才和关键原材料这三个主要因素，国内半导体光刻胶研发进度缓慢。不少人意识到了在半导体产业链上，我们还存在诸多的落后短板，尤其是在光刻机方面，已经成为了“卡脖子”的关键难题，这里面半导体制造材料极为重要。

对于我们来说，在光刻胶方面，长时间以来同样也是面临着外国厂商的技术封锁。近日上海新阳称，KRF 光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，预计明年上半年开始中试。公司目前已经购置了一台 ASML1400 型二手光刻机，用于光刻胶的研发。

公司以技术为主导，立足于自主创新的高新技术企业，致力于为用户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案。这对于我国国产高端光刻胶的市场需求与供应来说，绝对是很不错的消息，相信国产半导体产业一定会成功。