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光刻机再传好消息后,中国芯片转机来了?

国产芯片的难点

科技时代最重要的就是各种核心技术,因为只有掌握了技术,才能拥有更强大的生产力和更好的发展空间。我们国内一直想要成为真正的科技强国,所以非常重视各种国产技术的研发工作,致力于不断地取得突破,其中半导体芯片更是国内的首要目标!

芯片到底有多重要?相信大家都有直观的感受,小到手机电脑,大到飞机火箭,无一例外都离不开芯片。毫不夸张地说,在如今这个时代,芯片的作用被无限放大了,任何科技公司或国家都想要攻克相关技术,一举占据优势地位。

但芯片不是那么容易就能生产出来的,尤其是先进的芯片,其技术复杂程度超出了人们的想象,如果满足不了条件,就只能依赖别的厂商供应。我们国内时至今日还需要从国外大量进口芯片,正是因为无法突破最顶尖的芯片制造技术。

事实上,国内的芯片设计和封测水平都不落后,主要的弱势就在于制造方面。至于为什么会出现这种问题,是因为国内缺少高端光刻机的支持,导致制造不出来先进的芯片。光刻机是生产芯片的必需设备,也是目前人类工业最高工艺技术的体现,其重要性和难度都堪称顶尖!

今年9月份,美国对华为下达了无理的芯片规则,让海思麒麟面临着很大的压力。而我们国内虽然第一时间表明了坚决支持华为的态度,但是却无法提供什么有效的帮助,这进一步证明了攻克光刻机技术的必要性。

为此,国内最高科研机构中科院宣布了入局光刻机的决定,并且表示以后将会集中力量解决芯片和光刻机被国外“卡脖子”的问题。这意味着国内的芯片事业迎来了新的助力,有了中科院的支持,技术突破就没有那么困难了。

光刻机再传好消息

果不其然,在中科院布局之后,国产光刻机再传好消息!11月26日,据国内媒体报道称,上海微电子已经研发出了22nm精度的光刻机,而此前它能生产出的最先进的光刻机为28nm,相比之下,取得了不错的进展。

可能很多人都没有听过上海微电子的名字,但是对于国内的半导体行业而言,它具有非常重要的意义,因为上海微电子是最领先的国产光刻机厂商。此次上海微电子将光刻机的精度提高到22nm,自然是一个好消息,能够为国产芯片带来更多的希望。

但也有些人表示,ASML的EUV光刻机都能生产出5nm芯片了,而上海微电子才刚刚突破22nm,这其中的差距未免太大了。不可否认,上海微电子确实比不上ASML,毕竟后者是全球唯一能制造高端光刻机的厂商,但是国产公司的努力同样值得认可。

而且更重要的是,在上海微电子22nm光刻机的支持下,中国芯片的转机来了!之所以这么说,主要有两个方面的原因。

第一个方面在于虽然上海微电子光刻机的精度只有22nm,但是结合双重曝光技术之后,最高能生产出10nm的芯片。也就是说,国内很快就能完成10nm芯片的量产,并且不需要借助任何国外技术,实现真正的国产化和自主化。

10nm芯片对于很多行业来说,已经完全够用了,国内距离自给自足的目标也越来越近了。

第二个方面在于上海微电子的突破将引起ASML的重视,以后它可能会更加看重我们国内市场。因为在此之前,ASML根本没有任何对手,甚至其总裁还公开表示,就算公开图纸,别的公司或国家也造不出高端光刻机。

但是现在上海微电子却有望打破这种垄断局面,自然会引来ASML的关注,而为了抓住中国市场,ASML将来肯定会更多地将产品出口给国内。当国内拥有了足够多的光刻机,中国芯片的崛起就指日可待了!

写在最后

综上所述,虽然芯片技术确实很难掌握,但是在众多国产科技公司的努力下,我们国内一定会不断地突破,直至不再受到任何外界因素的影响。希望上海微电子能保持住这种状态,继续带来好消息,为国产芯片的崛起添砖加瓦!

对此,你们怎么看呢?欢迎留言和转发!

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20201130A05OX700?refer=cp_1026
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