Preforma Uniflex CW：高效率 卓越性能的LPCVD设备

【ITBEAR科技资讯】5月10日消息，据报道，中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)推出了自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex CW。这款设备配备了拥有自主知识产权的优化混气方案及加热台，具有优秀的薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性。Preforma Uniflex CW可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台)，每个反应腔可以同时加工两片晶圆，能够实现更高的生产效率，同时保证较低的生产成本和化学品消耗。

据ITBEAR科技资讯了解，这款设备具有良好的工艺处理能力，可适应弯曲度较大的晶圆。其阶梯覆盖率和填充能力非常优秀，能够满足先进逻辑器件、DRAM和3D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。

中微公司作为一家致力于半导体装备研发的高科技企业，一直以技术创新为核心竞争力，致力于推进中国半导体装备产业的发展。此次推出的Preforma Uniflex CW设备充分展示了中微公司在自主研发方面的实力，对于中国半导体装备行业的发展有着重要意义。