周末王炸利好！“光刻机”第一龙头，机构重仓300亿，或超“阿斯麦”

目前光刻机几大核心方向，已经取得突破性进展

一台光刻机，主要由激光光源、物镜系统以及工作台，三大核心部分组成。

光刻机有28nm、22nm、14nm、7nm、5nm等不同规格之分，光刻机想要实现更精确的光刻，就必须要提高分辨率，方法只有两种：一种是减少光源波长，另一种是提高数值孔径。

目前，最顶尖的光刻机，光源波长是13.5nm。目前，我国光刻机ArF光源波长已经突破到193nm，已应用在上海微电子制造的28nm光刻机上。

光学镜头是整个光刻机最昂贵最复杂的部件，涉及光学、机械、计算机、电子学等多个前沿领域。虽然仅20余枚镜片，但设计难度极大。

工作台分为两部分，一个是测量台，一个是曝光台，因此也叫双工作台。两个工作台通过交换位置和智能，提高生产效率。

除了以上几大核心部分取得突破外，在沉浸系统方面，也取得了一定的突破。目前，国产光刻机沉浸系统还处于DUV阶段，即KrF、ArF、ArFi。前两种已经取得突破，国产最高可做到90nm，可实现国产化替代。

基于以上逻辑，未来的空间也比较大，下面我也精选了几家值得重点关注，尤其是最后三家尤为看好，已列入九月重点布局行列。

容大感光

公司掌握PCB油墨、光刻胶等电子化学产品生产过程中的核心技术。

晶方科技

公司收购的Anteryon公司为荷兰光刻机制造商ASML供应商

西陇科学

公司的主营业务为化学试剂的研发、生产、销售，部分化工原料贸易、原料药及食品添加剂生产及销售等业务。公司的主要产品为电子化学品、通用试剂、原料药及食品添加剂、化工原料、体外诊断试剂。公司作为国内技术和规模领先的化学试剂专业制造商和集成供应商，提供优质产品和化学试剂技术解决方案。

新莱应材

光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。