国产芯迎来曙光！5nm光刻技术获得突破，中国芯片有望实现弯道超车

近年来为何一再强调“中国芯”，并不仅仅是因为美国对华为在芯片上的“封锁”，而是基于中国制造正在由中低端向高端的升级。尤其5G甚至未来6G的研发、兴起以及大数据、人工智能、区块链等热门技术的现实应用，高端芯片将在其中占据越来越重的比例。

而且我国虽然是发展中国家，但也在努力发展科技，希望能在科技竞争中取得优势，但在电子产业中没有和芯片的核心技术一直是国家竞争中处于不利地位的一大因素。

但是近日，一好消息传来，国产芯迎来曙光！中科院攻克光刻技术，中国芯片有望实现弯道超车，7月8日，中国科学院苏州纳米与纳米仿生研究再传喜报，该研究所发表了一种新型5nm光刻加工方式。

而且这项技术与荷兰ASML公司基于EUV极紫外光刻的光刻技术有很大不同,能使我国实现半导体自主研发,这项技术的突破也是我国比肩ASML公司指日可待。