大手笔！中企重金拿下3台ASML光刻机，居然不是用来生产芯片

在华为获得了5G上的绝对领先后，美国开始频频挑起事端，在这个过程中，华为则首当其冲，成为美国打击的重点。尤其是在2020年，美国更是对华为于芯片方面展开了全方位封锁。加上我国在半导体领域起步较晚，更是处处面临技术的垄断，华为因此陷入了前所未有的芯片危机之中。这并不是华为一家的危机，而是整个中国科技市场的危机。因此，2020年，我国所有半导体企业集中全力攻破半导体技术，突破美国壁垒，争取早日实现自主。

在芯片的制造生产中，光刻机是最关键的设备，也是当下世界先进工艺的代表。而我国在半导体领域的不足，其实有相当一部分原因是因为光刻机技术的落后。对此，中科院更是专门成立了科研小组而进行专项攻破。当然了，在此之前，我国也竭尽全力想要成功从ASML中购入光刻机。毕竟在当下社会里，ASML光刻机的生产技术是有目共睹的。但出于美国的阻挠，我国迟迟没有将该目标变成现实。尽管在此之前ASML宣布将会加大对中国市场的布局，但直到现在，我国也没能成功从ASML本部购入最先进的光刻机。不从其他渠道，我国还是有不少企业获得了ASML的光刻机。一家来自上海名叫新阳的公司，花费1亿元成功购入了三台ASML光刻机。大手笔！中企重金拿下3台ASML光刻机，居然不是用来生产芯片。

据悉，上海新阳本次购入的光刻机全部都是ASML-1400型号的。该型号其实并不是ASML当下最先进工艺的代表，只能用来生产55nm的芯片。而且这三台光刻机同样也是二手的。又拿下三台ASML光刻机！目的居然不是为了生产芯片。上海新阳并没有打算用其进行芯片的生产研发，而是应用于芯片生产的关键材料光刻胶的研发与测试中。这与之前晶瑞半导体公司从SK海力士中购入ASML二手光刻机是同样的用途。不过即使如此，截止目前为止，上海新阳也只是完成了一台光刻机的安装和测试工作。在今年1月5日的时候，上海新阳则正式宣布，剩余两台光刻机将在三月份完成相应的安装部署工作。至此，三台ASML光刻机将全部到位，服务于光刻胶的研发工作中来。

光刻胶作为芯片研发中最重要的一个材料，将会直接影响生产出来的芯片质量的好坏。相关调查显示，目前的光刻胶技术已经来到了KrF和ArF光刻胶水平，占据了全球光刻胶的64%。尤其是对于一些高科技产品而言，更是全部应用的KrF和ArF两种光刻胶。而这两种光刻胶的市场则全部掌握在美日两个国家手中，尤其是日本企业。而我国在光刻胶水平上，则还停留在PCB低端光刻胶阶段。当然了，低端光刻胶市场被我国占据了94.4%，但在KrF和ArF这种高端光刻胶上，却只占据了1.6%的市场份额。因此，ArF光刻胶已经成为了国家02专项中的重点攻克项目。

其中在去年12月，南大光电在ArF上获得了重大突破，已经成功通过了客户的使用认证阶段。据悉，此光刻胶将最高可用于7nm芯片的生产中来，这无疑说明我国在芯片生产技术的突破上再次获得了重大进展。而同月，上海新阳也在ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶上研究上获得了成功，在2022年将会成功实现KrF厚膜光刻胶的量产，而一年后则会顺利实现ArF干法光刻胶的量产。而这些自然与其成功购入的这三台ASML光刻机的使用是密不可分的。

随着光刻胶生产技术的成功突破，美国将会在芯片生产上对我国再少一层壁垒，我国也将会在此基础上进一步加快芯片的研发进程。当然了，有人可能会说，我们总是说我国芯片生产研发获得了这样或那样的成就，但到现在不还是要用外国的吗？事实的确如此，但我们有一点需要明确的是，芯片的生产研发并不是一蹴而就的，作为当下科学技术的代表产品之一，讲求的是循序渐进。我们可以加快速度，但并不是说我们要跳过其中任何一个步骤而实现飞跃。只有脚踏实地，才能实现真正的突破。全球未来的芯片市场，也必定会因为中国的成功加入，而发生翻天覆地的变化。

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