光刻技术有了新突破，为何质疑盖过了庆祝？

光刻技术有了新突破，为何质疑盖过了庆祝？

中科院苏州纳米所在芯片领域有了新突破。研究团队采用双激光束交叠技术，实现了最小5 nm的特征线宽进步。

然而，此消息一出，立刻引起了非常大的争议。以至于官网因为影响太大都删除了这条消息。明明是好事，怎会发展到这样的地步？首先，一些人过度的热炒这件事。

据了解，此项成果中的5nm和手机芯片的5nm不是一个概念，很多人过度热炒“5nm”，让消息慢慢偏离了原意。甚至还传成了“国产5nm芯片即将量产”，以讹传讹，自然会饱受争议。

但还有一部分人，是为了质疑而去质疑。因为他们只愿意看困难，不愿意谈发展。即使不是芯片，他们也同样会去质疑。

不过也不能用绝对的眼光看待这些现象。因为不同的声音出现，有时也可以帮助我们冷静的思考。总得来说，刺耳声音的最大贡献，就是让我们明白我们还有很长的路要走！