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荷兰专家:美国让中国解决光刻机难题,如今让中国下了盘“好棋”

芯片技术已经成为当下十分热议的话题。我国在科技领域上的研发已有许多技术获得过世界专利,甚至一些技术水平已经超过了世界科研技术水平。但由于芯片的科研技术相比于西方国家,起步的确有些晚。

每一个国家都是属于自己的尖端技术,作为自己最为结实的后盾。科技领域上的瓶颈问题,相对较难打破。但这并非无法打破僵局只不过是时间和精力的问题而已。荷兰专家:美国让中国解决光刻机难题,如今让中国下了盘“好棋”。

这一盘“好棋”,就是前不久上海微电子公司传来的好消息,已经成功研发出属于自己的22nm的光刻机技术,在芯片领域当中,光刻机不仅起到了辅助作用,而且真正让“国芯”实现自主研发,投入生产,这项技术与芯片技术的研发同样重要。

毕竟,现在我国依旧在使用ASML提供的7nm光刻机如果我国真的掌握了超越7nm的光刻机技术,对于ASML来说,也是一种不小的打击。虽然光刻机技术的掌握并不是一朝一夕就能实现,但在研发上,我国已经突破自己的光刻机技术的瓶颈问题,算是为了之后技术提升打下坚实的基础。

也许多数人并不太清楚,光刻机技术在研发程度上,单单是从技术方面甚至比芯片技术的研发,还需要耗费大把的精力和时间。这一次我国在22nm工艺光刻机上的重大突破,也让AMSL有些“担忧”,要是我国真的研发出光刻机技,半导体市场就会有一次“大洗牌”。

但上海微电子刚刚宣布好消息,ASML的高管就直言:光刻机本身就是一项极难研发出来的技术,即使给到完整的制作流程图,没有尖端的技术最为辅助,也是“白搭”。在这一盘好棋出来之后,我国在光刻机研发领域上,投入大量的资金进行更为长期的研发,相信再过不久,我国光刻机技术会有新消息传来。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20201205A0269100?refer=cp_1026
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