荷兰专家：美国让中国解决光刻机难题，如今让中国下了盘“好棋”

芯片技术已经成为当下十分热议的话题。我国在科技领域上的研发已有许多技术获得过世界专利，甚至一些技术水平已经超过了世界科研技术水平。但由于芯片的科研技术相比于西方国家，起步的确有些晚。

每一个国家都是属于自己的尖端技术，作为自己最为结实的后盾。科技领域上的瓶颈问题，相对较难打破。但这并非无法打破僵局只不过是时间和精力的问题而已。荷兰专家：美国让中国解决光刻机难题，如今让中国下了盘“好棋”。

这一盘“好棋”，就是前不久上海微电子公司传来的好消息，已经成功研发出属于自己的22nm的光刻机技术，在芯片领域当中，光刻机不仅起到了辅助作用，而且真正让“国芯”实现自主研发，投入生产，这项技术与芯片技术的研发同样重要。

毕竟，现在我国依旧在使用ASML提供的7nm光刻机如果我国真的掌握了超越7nm的光刻机技术，对于ASML来说，也是一种不小的打击。虽然光刻机技术的掌握并不是一朝一夕就能实现，但在研发上，我国已经突破自己的光刻机技术的瓶颈问题，算是为了之后技术提升打下坚实的基础。

也许多数人并不太清楚，光刻机技术在研发程度上，单单是从技术方面甚至比芯片技术的研发，还需要耗费大把的精力和时间。这一次我国在22nm工艺光刻机上的重大突破，也让AMSL有些“担忧”，要是我国真的研发出光刻机技，半导体市场就会有一次“大洗牌”。

但上海微电子刚刚宣布好消息，ASML的高管就直言：光刻机本身就是一项极难研发出来的技术，即使给到完整的制作流程图，没有尖端的技术最为辅助，也是“白搭”。在这一盘好棋出来之后，我国在光刻机研发领域上，投入大量的资金进行更为长期的研发，相信再过不久，我国光刻机技术会有新消息传来。