近日国产EUV光刻机取得“突破性”进展，外媒：中国人太可怕了！

我国的芯片起步较晚，这也导致我国之前的芯片技术相对比较落后，也因此被西方掌握芯片的国家卡脖子，芯片技术落后的原因有不少，但主要还是因为以前的思想停留在“造不如买”的圈圈里，自从我国决心研制芯片也是取得了不错的进展，最近国产EUV光刻机就取得了“突破性”的进展，吸引了不少国家的关注。

光刻机作为半导体制造领域的关键技术，其在全球范围内一直被视为高科技产业的重要标志。当下比较稳妥的芯片制造路线还是先研制光刻机，有了光刻机才能制作芯片。或许有人会问：能不能抛弃现在的芯片生产方式，换一种方式生产芯片？

如果从头来过，走自己全新的路，不但没法保证这条路的可行性以及它的前景，最主要的是它的难度是不可估量的，前无古人后无来者远比当前的路要难走，走到头有可能发现研究的方向都不对，况且这样做得成本可远比跟随别人脚步去研发光刻机要大。

当前，光刻技术是半导体制造过程中的核心环节，可以明确地说：光刻机技术的发展会直接影响着当前整个半导体产业的技术水平。光刻技术自从1950年发明以来，经过不断的革新换代，现在已有少数国家所掌握，它的重要性不言而喻。

当前世界上所存在的EUV都是由多个国家提供的零部件构成，然而我们国产的EUV光刻机由于受到西方国家为首的打压，导致我们只能走自主供应链。很多光刻机的零部件只能独自研发，各个攻破，由此可以看出我国的EUV光刻机的路异常难走。

近日，哈工大正式官宣，该校的科研团队成功研制出高速超精密激光干涉仪，该激光干涉仪用于350nm到28nm工艺光刻机的集成研制和性能测试，实现了光源技术的自主创新。在国际上引起了广泛的关注与讨论。

西方一些主流媒体发文感慨道：中国人太可怕了，中国的这群科学家头脑太可怕了，西方国家走了几十年的路，中国科学家他们仅用了几年时间就走完了！

你觉得西工大此次取得的突破如何呢？相信在不久的将来，我国的芯片研制技术一定会赶超，甚至会改变世界光刻机的格局，各位网友觉得呢？欢迎留言评论。