厦门乾照光电申请一种透明导电材料层蚀刻相关专利，使蚀刻更加均匀

国家知识产权局信息显示，厦门乾照光电股份有限公司申请一项名为“一种透明导电材料层的蚀刻方法、LED芯片及其制作方法”的专利，公开号CN120603400A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本申请提供了一种透明导电材料层的蚀刻方法、LED芯片及其制作方法。其中，透明导电材料层的蚀刻方法包括在透明导电材料层的表面依次进行涂光刻胶、曝光、显影和第一次坚膜，得到具有第一预设图形的第一光刻胶层；以第一光刻胶层为掩膜，对透明导电材料层进行n次蚀刻，以形成透明导电层，n≥2，且n为正整数；在蚀刻液中增加第一溶液使蚀刻液的表面张力逐次降低，改善蚀刻液的浸润性，使得蚀刻更加均匀，蚀刻角度比较平缓，避免蚀刻后边缘产生毛刺。LED芯片的制作方法采用上述的蚀刻方法，LED芯片上采用上述的LED芯片的制作方法。

天眼查资料显示，厦门乾照光电股份有限公司，成立于2006年，位于厦门市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本92033.3863万人民币。通过天眼查大数据分析，厦门乾照光电股份有限公司共对外投资了17家企业，参与招投标项目40次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息544条，此外企业还拥有行政许可29个。

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来源：市场资讯