有网友报道,我国终于研制成功国内第1台半导体激光隐形晶圆切割机,并且拥有世界领先水平。这就意味着,我国在半导体研发过程中又增进了一步,对国内的芯片发展会带来更多的作用。
近几年前端制造材料占比较大(63%),且规模增长较快、技术门槛高、附加值高,但中国大陆的国产厂商在封装材料领域的国产替代稍尚可,在制造材料上几乎是一片空白。
而美国在此之前一直通过芯片上的优势来制约我国企业的发展,尤其是对华为进行一系列限制之后,更显示出了我国在这一方面的被动。此前的教训都在警示着我们,无论是哪一领域都不能过度受制于人,一旦过于依赖他国,那就很容易受到影响。
而目前,我国正在解决芯片和光刻机的关键问题。目标是到今年年底实现32纳米以上光刻机的自主生产,到2025年实现14纳米以上光刻机30%的国产化,到2025年实现我国芯片70%的自给率
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