中科院首创2nm芯片关键技术，还需要依赖光刻机吗？今天算明白了

众所周知自去年美国对我国企业实行芯片制裁，拒绝为我国企业继续供给芯片之后，华为第一时间推出了该企业研发多年，并且已经具有上市资格的麒麟系列芯片，同时国内其他企业也感受到了巨大的危机感，纷纷投入国产芯片研发生产的阵营之中。

然而一年多来，我国国产芯片的发展之路，可谓是一波三折，在美国的重重阻碍之下，再次卡在了先进高端光刻机这一环节。

如今我国中科院提出了其首创的2纳米芯片的关键技术，这一生产技还需要用到光刻机吗？中国芯片是否能够借此迎来新的转机，接下来我们就为大家一一揭晓。

中科院推出的这一关键技术就是垂直纳米环栅晶体管的生产技术，这是国际公认的2纳米芯片制造领域的一大关键性技术。

如今我国将其研制出来，意味着我国已经踏入了2纳米芯片的生产领域之中，而且中科院相关专家已经将其研究成果进行总结，在国际知名学术杂志上发表，得到了国内外专家的一致认可，并且为这一技术申请了专利。

根据中科院专家们的初步规划，将努力于2024年正式实现2纳米芯片的生产，并且通过实践的检验。

然而从当前来看，高端的光刻机仍然是中国芯片发展的一大制约因素，即使是在2纳米芯片研发上有大的进展，我们当前需要解决的依旧是光刻机的问题。

希望在四年的发展实践中，我国能够有更多的技术人才加入光刻机的研发之中，在该领域创造下中国人的成就。

当前荷兰的ASML公司是光刻机生产领域的王者，是世界各大芯片是生产企业所依赖的对象，之前我国也与该企业签订了光刻机的订购合约，但是在2018年该企业的一大生产厂房突发意外事故，阻碍了我国订购的产品的及时完工。

如今再加之于美国的干扰，能否达成合作还是一个未知数，总之现如今看来想要突破这一难题，真正可以依赖的还是我国自己的专家团队。

好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

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