华为:突然就莫名的兴奋起来了!
国产5nm光刻技术获得新突破:苏州纳米所联合国家纳米中心在超高精度激光光刻技术上取得重要进展。无机钛膜光刻胶上,实现了1/55衍射极限的突破(NA=0.9),也就是5nm的规模生产能力的基础。
研究团队还宣布他们所使用的是具有完全知识产权的激光直写设备。设备很好地解决了高效和高精度之间的固有矛盾,开发出的新型微纳加工技术,在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。
虽然科研成果到实际应用还有一段时间,但是这不愧为一个令人兴奋的消息,碉堡是一个一个打下来的,难题也是都需要一项一项慢慢攻克的,相信我们国家的科学家有这个能力解决芯片的生产问题,这是我们国家芯片制造摆脱美国钳制必须经历的一步,加油!
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