应用材料申请EUV CAR抗蚀剂显影处理流程中优先浸润专利，公开一种基板图案化方法

文章来源：企鹅号 - 金融界视点

国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“EUV CAR抗蚀剂显影处理流程中的优先浸润”的专利，公开号CN120604321A，申请日期为2024年01月。

专利摘要显示，本文公开的具体实施方式包括一种基板图案化方法。在一个具体实施方式中，方法包括，在基板上设置光刻胶层，并曝光所述光刻胶层以在所述光刻胶层中形成曝光区域和未曝光区域。在一个具体实施方式中，所述方法进一步包括：用循序浸润合成（SIS）工艺处理所述曝光区域或所述未曝光区域，以形成经处理区域，并显影所述光刻胶层，以去除所述光刻胶层除所述经处理区域以外的部分。