国家知识产权局信息显示,华虹半导体制造(无锡)有限公司申请一项名为“改善闪存读干扰的器件及其制造方法”的专利,公开号CN120603248A,申请日期为2025年05月。
专利摘要显示,本发明提供一种改善闪存读干扰的器件,包括在浮栅多晶硅层上形成的第一氧化硅层;在第一氧化硅层形成的渗氮二氧化硅层;在渗氮二氧化硅层上形成的氮化硅层;在氮化硅层上形成的第二氧化硅层;在第二氧化硅层上形成的控制栅多晶硅层。本发明渗氮后的氧化层介电常数提高,抑制浮栅电子隧穿,显著改善读干扰失效。
天眼查资料显示,华虹半导体制造(无锡)有限公司,成立于2022年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本402000万美元。通过天眼查大数据分析,华虹半导体制造(无锡)有限公司参与招投标项目375次,专利信息83条,此外企业还拥有行政许可227个。
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来源:市场资讯